所以，SEM中，透鏡與放大率無關。

　　場深

　　在SEM中，位于焦平面上下的一小層區域內的樣品點都可以得到良好的會焦而成象。這一小層的厚度稱為場深，通常為幾納米厚，所以，SEM可以用于納米級樣品的三維成像。

　　作用體積

　　電子束不僅僅與樣品表層原子發生作用，它實際上與一定厚度范圍內的樣品原子發生作用，所以存在一個作用“體積”。

　　作用體積的厚度因信號的不同而不同：

　　歐革電子：0.5～2納米。

　　次級電子：5λ，對于導體，λ=1納米;對于絕緣體，λ=10納米。

　　背散射電子：10倍于次級電子。

　　特征X射線：微米級。

　　X射線連續譜：略大于特征X射線，也在微米級。

　　工作距離

　　工作距離指從物鏡到樣品*高點的垂直距離。

　　如果增加工作距離，可以在其他條件不變的情況下獲得更大的場深。

　　如果減少工作距離，則可以在其他條件不變的情況下獲得更高的分辨率。

　　通常使用的工作距離在5毫米到10毫米之間。

　　成象

　　次級電子和背散射電子可以用于成象，但后者不如前者，所以通常使用次級電子。

　　表面分析

　　歐革電子、特征X射線、背散射電子的產生過程均與樣品原子性質有關，所以可以用于成分分析。但由于電子束只能穿透樣品表面很淺的一層(參見作用體積)，所以只能用于表面分析。

　　表面分析以特征X射線分析*常用，所用到的探測器有兩種：能譜分析儀與波譜分析儀。前者速度快但精度不高，后者非常**，可以檢測到“痕跡元素”的存在但耗時太長。